Désignation :
Nom principal:
Boite de masques de circuits intégrés
Nom secondaire :
Fabricant :
IMAG Informatique et Mathématiques Appliquées de Grenoble - fédération de labos, ENST Ecole nationale supérieure des télécommunications, CMP service Circuit Multi-Projet de l'IMAG, UCL Université Catholique de Louvain
Marque :
Date de fabrication :
1981-00-00
Date de fin :
0000-00-00
Période standard :
1975-2000
Alimentation :
Puissance (W) :
Etat :
bon, incomplet
Fonctionnement :
(inconnu)
Établissement :
ACONIT, 12 Rue Joseph Rey
Description :
L'ensemble de masques de circuits intégrés loge dans une boîte en plastique noir, avec un capot ajusté hermétiquement (un peu sur le format des boîtes de rangement de diapositives).
L'intérieur de la boite est rainuré pour loger des plaques de verre de format 5x5 cm. Cette boite contient 5 plaques photographiques. Sur quatre des plaques se trouve l'indication IMAG 81041, suivie d'un numéro d'ordre 1, 3, 6, 7.
Ainsi on en déduit que les plaques 2, 4, 5 et 8 sont perdues.
Ce jeu de masques résulte d'une collaboration entre les universités de Grenoble, Brest et Louvain, en Belgique. Il est réalisé sur des supports en quartz, sur lesquels sont disposées de fines couches d'oxyde de chrome noir opaque, ôtée par gravure photosensible pour les parties transparentes. Lors de la gravure des circuits intégrés, les masques sont réduit optiquement d'un facteur 5.
Utilisation :
En mars 1981, environ 18 mois après les universités américaines, 9 circuits intégrés conçus par des étudiants à Grenoble sont fabriqués puis testés. Ces 9 projets d'étudiants sont regroupée en 3 "circuit multi-projet" (CMP).
Ce jeu de masques, fabriqué à l'Université Catholique de Louvain (UCL), comprend 3 projets d'étudiants, du DEA de microélectronique, de la maîtrise d'informatique et de l'ENST de Brest.
Le service CMP de fabrication de circuits intégrés existe toujours en 2015 "http://cmp.imag.fr/"
Caractéristiques techniques :
La technologie de l'époque utilisait 3 couches conductrices : diffusion, polysilicium et aluminium.
Le masque numéro 1 (négatif) définit les diffusions de dopant dans le substrat.
Le masque numéro 3 définit les contacts diffusion-polysilicium (contacts enterrés)
Les masque 6 et 7 définissent les contacts aluminium (percés en 2 étapes)
Aspects Physiques :
Longueur 15 cm , largeur 6 cm , Hauteur 6 cm ,
Médias
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| No | Description |
|---|---|
| 6103 | Masques de circuits intégrés CMP-CI - boîte ouverte |
| 6104 | Masques de circuits intégrés CMP-CI - les 5 plaques de verre conservées |
| 6105 | Masques de circuits intégrés CMP-CI - photo d'agrandissement d'un circuit |
| 6106 | Masques de circuits intégrés CMP-CI - photo d'agrandissement du circuit IMAG 81041 7 |
| 6107 | Masques de circuits intégrés CMP-CI - photo d'agrandissement du circuit IMAG 81041 6 |
| 6108 | Masques de circuits intégrés CMP-CI - photo d'agrandissement du circuit IMAG 81041 3 |
| 6109 | Masques de circuits intégrés CMP-CI - photo d'agrandissement du circuit IMAG 81041 1 |
| 10175 | Article Echosciences d'avril 2021 - PDF projets étudiants CMP |
Liens :
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